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复盘怎么做：把偶然的好结果变成可复用方法
一批图做完，最容易漏掉的是把侥幸对上的那一张变成下次还能对上的做法。从两批共 115 件一手记录里，看复盘实际要落哪三份东西。
一批图做完，最容易漏掉的不是修图，是把这一批里"侥幸对上的那一张"变成下次还能对上的做法。
我手上有两批素材的记录，一批是 70 张东方电影诗意，一批是 45 件高饱和 3D 横图。两批的字段不是同一套，但复盘这件事在两批里都留下了痕迹。下面这几条是从记录里读出来的，不是我总结出来的。
先记偏差，再谈别的
45 件那批里，每一件都有一条"与策划不一致"的记录，45/45 全填，加起来 53 条。这一步是硬性的，没有一件跳过。
写法很具体。比如 CQ-007 那条：机位比计划中的高位斜俯更低，采用接近侧前方的三分之二视角，主体占幅较大。
CQ-008 那条：粉色在宽阔亮面呈较浅的玫粉，饱和度低于策划中的亮粉；下方近翼与地面间距较小，但仍有分离阴影。
这两条都不是"看起来还行"，而是写清了偏在哪儿。复盘的第一步其实就这么朴素：把和你原本打算不一样的地方写下来，别写评价。
有一条特别值得抄。CQ-010 的偏差记录末尾多了一句：画面表现概念软体，不能据此判断真实气垫承重能力。
这是在给这张图划边界。顺带写清"这张不能用来证明什么"，比写十句效果很好有用。
把每次都对的那一句沉淀下来
70 张那批的 `analysis.keyAdjustments` 里，三条调整建议 70 张完全同一句，一个字都没改：
- 生成后如与同批次作品视角相近，优先调整镜头高度和前景元素
- 生成后如主体不清晰，增强视觉锚点但不要加入文字
- 生成后如风格过度赛博或奇幻，降低饱和度并强化真实材质
这不是某一张的经验，它是整个批次的默认动作。同一批里，`Lighting/mood` 有 69 种写法、`Composition/framing` 有 65 种写法，逐张变的东西很多；这三条却一句没变。
能沉淀成"每次都执行"的，就别让它留在一张图的备注里。这是复盘里回报最高的一步，也最容易被"下次再说"拖掉。具体怎么写可复用的词块，风格一致性：把风格写成可复用的词块 那篇拆得比较细。
粒度不统一是可以的
同一批里，抽象到哪一层不必强行拉齐。
45 件那批的 `learning_point` 有两种粒度。晶体异境 15 张共用同一句：借助透明厚度、切面明暗与焦散建立立体感，保持主体简洁和配色集中。充气幻境 15 张则逐张不同，按各自的子题材写——表现扭转张力、表现编结张力、表现漂浮体量。
同一批、同一个字段、两种粒度。看起来不一致，但它是合理的：晶体异境那 15 张要解决的是同一个问题，充气幻境那 15 张每张要解决的不一样。为了整齐把它们统一，反而会把有用的细节磨掉。
复盘要能回答下次改哪里
45 件里有 4 件返工重做过，每件的返工原因单独记了一条。四条读下来是同一类问题：右上脏斑与色阶断层、晶褶暗斑与分层环纹、背景右下角发黑、初次输出透明背景。
四次返工，全部落在背景上，没有一次是主体画错。
如果这批只记了"哪几张重做过"，下次还得从头排查；记下"重做的原因都指向背景"，下一次的检查顺序就直接定了——先看背景有没有断层和暗斑，再看主体。复盘在这里的作用，是把一张一张的经验换成一条可以按顺序执行的检查。迭代修改：不重写整段的改法 讲的是同一件事的另一半：知道改哪里之后，怎么改才不把对的部分一起推翻。
落地就三样东西
不用做复杂的表格。每批维护三份：
- 一份锁死项——这一批里绝对不动的字段，性质同上面那三条 70/70 的建议
- 一份偏差表——每张一行，写清和策划不一致的地方，包括这张不能用来证明什么
- 一份返工记录——只写改了什么、为什么改
三份都不长。从第一单到稳定接单：该准备什么 里提过交付清单，这三份是它往创作侧的一个补充。真正难的不是格式，是每张都填——45 件那批是 45/45 全填的。
翻一遍手上最近的一批图，挑一张你最满意的，试着写一条它的偏差记录。写不出来，说明那张不是"做好了"，只是恰好没出错。