迭代修改：不重写整段的改法

一张图要改，多数人的第一反应是把整段提示词重写一遍。

重写之后画面确实变了，连同那些原本对的地方一起变了。这是最亏的一次修改。

一批四十五张里，真正回炉的只有四张

第四批那四十五件作品的资料里，有生成记录、尝试记录和修改记录三栏。

其中四十一件的修改记录是空的：一次生成，直接过。另外四件各改过一次。

把这四件的修改原因放在一起看，问题高度集中。三件是背景出事：一件右上角出现不规则深紫脏斑并带色阶断层，一件晶褶边缘有暗斑、杂色光晕和分层环纹，一件背景右侧和下角暗到发黑还起了分层。剩下一件更直接——输出的图带了透明背景，而要求的是完整的酸橙绿棚景。

没有一件是主体画错了。

改法的样子：把不许动的逐项列出来

拿那件晶滴的例子。修改稿第一句是 `Change only the background rendering and background illumination`，只改背景的渲染和背景光。

紧接着是一长串不许变：`Preserve the original crystal exactly: its position, size, tilt, faceted droplet silhouette, red optical depth, internal refraction, cut facets and highlights.` 位置、尺寸、倾角、切面轮廓、内部折射、切面高光，一项一项点名。

另一件弯月晶体写得更细：形状、切面、透明度、粉红内部深度、原始位置和大小、构图、右下那道长长的品红焦散、贴地的接触阴影，全部列出保留。

修改稿的写法和原稿正好相反。原稿在描述要画出什么，修改稿在描述哪些不许变、只动哪一处。

记录里还标了哪一版被采纳：初次生成那版是 `selected: false`，定向修改那版是 `selected: true`。这行小标记很有用——半年后翻回来，你还知道当初留下的是哪一张。

负面词是整套换掉的

这一条我是看了记录才意识到的。

原稿的排除项是防风格跑偏的：`No text, letters, numbers, logos, watermark, people, animals, plants, typography, border, collage, multiple panels, tiny decorative clutter, scattered gems, lens flares, blown-out white bloom, pastel washed-out colors, flat vector appearance, repeating central gemstone, identical crystal columns, or rectangular flat-panel sculptures.`

修改稿的排除项整段换掉了：`No text, letters, logos, watermark, border, collage, dirty halos, black blotches, ring patterns, grain, color banding, posterization, chromatic haze, new objects, or changes to the crystal folds and geometry.`

防跑偏的那一串不见了，换成了这次实际出现的毛病——脏晕、黑斑、环纹、颗粒、色带、色阶断层、杂色雾——末尾再补一句不许改晶褶和几何。

留着原来的长清单没有意义。那些问题这一次并没有犯，而新出现的这一批，原稿里一个字都没提。负面提示词的真正用法 里讲过它只能减不能加，这里可以看到「减什么」是要随问题换的。

连「用途」那一行也会跟着换

四十五张的提示词第一行是用途标签。其中四十一张写的是 `stylized-concept`，剩下四张正是回炉过的那些——三张改成 `lighting-weather`，一张改成 `precise-object-edit`。

这一行不是装饰。`stylized-concept` 说的是「从零画一张」；`lighting-weather` 说的是「改这张图的光」；`precise-object-edit` 说的是「精确改这一个对象」。任务类型写在第一行，后面每一句才站得住。

那件输出透明背景的图，改稿里除了换用途标签，还专门补了一句：`The entire exported image must be fully opaque, with no transparent background, no alpha cutout, no black void and no colored edge contamination.` 不透明、没有透明背景、没有透明通道、没有黑底、边缘不串色——一句话把这一类错误全堵上。

这种堵法值得记下来：出过一次的毛病，下次直接写进要求里。

修改稿通常比原稿短

那四件的提示词长度都缩了：1373 字符到 1221，1404 到 1105，1512 到 941。

原因不难想——风格那一大段不用重写，位置让给了不许变的清单。所以迭代不一定要把稿子改长，只讲一件事的短稿往往更有效。

这一条有边界。如果这次要动的是构图，那就不是换一句能解决的，主体、机位、留白几栏都得跟着走。上面说的是局部瑕疵这一类修改。

缩下去的不只是那四篇改稿。四十一件没改过的作品，风格那一栏是逐系列共用的：充气幻境十五张同一句，流体冲击十四张同一句，晶体异境十二张同一句。而那四件改过的，风格栏整段没有了——修改稿不需要重新描述风格，只需要说清保留什么。

手上没有编辑能力时，还有一个选择

如果工具只能整张重出，那就换个思路：改描述，不重出。

第四批的记录里有现成做法。每件的质检栏如实写了成图和策划的偏差，比如那件钴蓝液片的偏差是「主体左下比策划更厚重，飞散细丝分布在上缘多处而不只末端」。同时它的创作思路从草稿改成终稿，注释写的是「按实际生成画面整理」。

画面可以接受，就把描述改成贴合实际的那一版，而不是为了让描述成真去重出一次。

下次要改图，先写两行

第一行：只改哪一处。第二行：哪些不许变，逐项列出。

写完这两行再动其他的字。改完把这次实际出现的瑕疵补进排除项，下一张就用得上。

参考图和重绘这两件事常被混在一起，图生图的三个层次 里分开讲过；字段本身的结构，提示词的结构 那篇更基础。想直接对着实例看，人物叙事 那一册里几张光位明确的图，思路记录写得比较细。